集成电路布图设计专有权，是指布图设计权利人享有的对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制，将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用的专有权。

集成电路布图设计专有权权属、侵权纠纷，是指双方当事人就集成电路布图设计的归属或侵犯权利人集成电路布图设计专有权而引发的纠纷。

集成电路布图设计专有权具有以下特点：(1)具有工业实用性，这是一般知识产权所不具有的。（2）必须经过一定的法律程序．即登记才能取得集成电路布图设计专有权。（3）布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受条例保护。（4）从保护期限看，符合其技术更新较快的特点

在实践中，集成电路布图设计专有权权属、侵权纠纷主要有：

(1)集成电路布图设计专有权权属纠纷，是指当事人之间就集成电路布图设计专有权归谁所有而引发的纠纷。

(2)侵害集成电路布图设计专有权纠纷，是指集成电路布图设计权利人就是否侵害其产集成电路布图设计专有权，而与他人引发的纠纷。

《集成电路布图设计保护条例》(2001年10月1日起施行）

第九条 布图设计专有权属于布图设计创作者，本条例另有规定的除外。

由法人或者其他组织主持，依据法人或者其他组织的意志而创作，并由法人或者其他组织承担责任的布图设计，该法人或者其他组织是创作者。

由自然人创作的布图设计，该自然人是创作者。

第十条 两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计，其专有权的归属由合作者约定；末作约定或者约定不明的，其专有权由合作者共同享有。

第十一条 受委托创作的布图设计，其专有权的归属由委托人和受托人双方约定；末作约定或者约定不明的，其专有权由受托人享有。

第十二条 布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界

任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。

第十三条 布图设计专有权属于自然人的，该自然人死亡后，其专有权在本条例规定的保护期内依照继承法的规定转移。

布图设计专有权属于法人或者其他组织的，法人或者其他组织变更、终止后，其专有权在本条例规定的保护期内由承继其权利、义务的法人或者其他组织享有；没有承继其权利、义务的法人或者其他组织的，该布图设计进人公有领域。

《集成电路布图设计保护条例实施细则》(2001年10月1日起施行）

第十条 布图设计是2个以上单位或者个人合作创作的，创作者应当共同申请布图设计登记；有合同约定的，从其约定。

涉及共有的布图设计专有权的，每一个共同布图设计权利人在没有征得其他共同布图设计权利人同意的情况下，不得将其所持有的那一部分权利进行转让、出质或者与他人订立独占许可合同或者排他许可合同。

对于集成电路布图设计专有权权属、侵权纠纷案件的地域管辖，应当区别权属争议发生的原因即合同关系还是侵权行为，分别确定案件管辖。

对于一般民事侵权纠纷案件的管辖，根据《民事诉讼法》第28条的规定，因侵权行为提起的诉讼，由侵权行为地或者被告住所地人民法院管辖。上述侵权行为地，包括侵权行为实施地和侵权结果发生地。对于侵害集成电路布图设计纠纷而言，目前没有明确的法律规定，可以参照专利纠纷案件确定。

对于侵害集成电路布图设计专有权纠纷案件的级别管辖，根据最高人民法院《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》，由各省、自治区、直辖市人民政府所在地，经济特区所在地和大连、青岛、温州、佛山、烟台市的中级人民法院作为第一审人民法院审理。

在适用本案由时，要注意集成电路布图设计专有权与著作权的区别。两者的不同主要有：(1)布图设计专有权的产生方式与著作权不同，只有在履行一定的法律程序，即登记后才能产生，而著作权无需登记，一旦作品完成，就享有著作权利。集成电路作为一种工业产品，一旦投放市场将被应用于各个领域，性能优良的集成电路可能会因其商业价值引来一些不法厂商的仿冒。另一方面，由于集成电路布图设计受到诸多因素的限制，其表现形式是有限的，这就可能存在不同人完全独立地设计出具有相同实质性特点的布图设计的情况。这就是说，布图设计具有一定的客观自然属性，其人身性远不及普通著作权客体那样强。(2）布图设计权中的复制权，与著作权中的复制权相比，受到更多的限制。如果照搬著作权法中关于复制权地规定，实施反向工程将被认为是侵权行为。为了电子工业和集成电路技术的发展，应当对复制权加以一定的限制，允许在一定条件下或合理范围内实施反向工程，美国《半导体芯片保护法》第906条第1款中规定：“仅为了教学、分析或评价掩模作品中的概念或技术，或掩模作品中所采用的电路、逻辑流和图及元件的布局而复制该掩模作品者。”或进行上述的“分析或评价，以便将这些工作的结果用于为销售而制造的具有原创性的掩模作品之中者”均不构成侵犯掩模作品专有权。与此相反，单纯地为复制布图设计而实施反向工程仍为侵权。反向工程是对复制权的一种限制。(3）布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计登记申请之日或者在世界任何地方首次投人商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受条例保护。而著作权的保护期限为自然人终生及其死亡后50年，截止于自然人死亡后第50年的12月31日；软件是合作开发的，截止于最后死亡的自然人死亡后第50年的12月31日。